Objectif
The NaPANIL project aims to develop processes, materials and tools, both for manufacturing and for control, for truly 3-dimensional nanosurfaces with feature dimensions ranging from 50 nm to several m. The nanosurfaces will be realised using various variants of nanoimprinting lithography. The dedicated application is to control light at nanostructured surfaces and a few potential high impact products have been identified by the end-user partners in the consortium. Design, demonstration and prototyping these applications will act as test-bench for the new manufacturing paradigm. The manufacturing processes possess generic aspects for production of any kind of topographically 3-dimensional nanostructured surfaces. In the R&D of nanoimprinting Europe has a leading position. The NaPANIL consortium combines the best expertise and know how in field to reach the goals in the project.
Champ scientifique
Mots‑clés
Programme(s)
Appel à propositions
FP7-NMP-2007-LARGE-1
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Régime de financement
CP-IP - Large-scale integrating projectCoordinateur
02044 VTT ESPOO
Finlande
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Participants (18)
2800 Kongens Lyngby
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08193 Cerdanyola Del Valles
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5232 Villigen Psi
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00185 Roma
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12555 Berlin
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00150 HELSINKI
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10043 Orbassano
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93300 Aubervilliers
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52074 Aachen
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75794 Paris
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75015 PARIS 15
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69004 LYON
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20009 DONOSTIA-SAN SEBASTIAN (GIPUZKOA)
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G12 8QQ Glasgow
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Participation terminée
BA1 1UD Bath
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Participation terminée
74490 ST JEOIRE
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00014 Helsingin Yliopisto
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2800 Kongens Lyngby
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