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Nanoresonators with Integrated circuitry for high sensitivity and high resolution mass detection

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Emisión en seco para sensores de masas ultransensibles

Los sistemas nanoelectromecánicos cuentan con un potencial sorprendente como sensores de fuerza y masa en niveles submicrónicos. Usando nuevas técnicas nanolitográficas, científicos europeos han desarrollado un proceso novedoso para incrementar el rendimiento de las aplicaciones de sensores de masa.

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Se han logrado avances significativos en los ámbitos de los microsistemas y la nanotecnología en relación con el desarrollo de sensores de masa mecánicos. De gran relevancia para esta investigación fue la labor llevada a cabo en el proyecto NANOMASS II, financiado con fondos europeos. El objetivo general del proyecto era combinar un sistema de circuitos semiconductores complementarios de metal-óxido con procesos nanotecnológicos para desarrollar sensores moleculares avanzados. También se evaluó la aplicación industrial del dispositivo como sensor bioquímico o medioambiental muy compacto y sensible. Debido a los avances tecnológicos logrados, los sensores tienen un nivel de precisión sin precedentes en cuanto a resolución de masas y sensibilidad espacial. La base del mecanismo es un grupo de nanovoladizos de silicio. La fabricación en grupo permite optimizar la función de los dispositivos mediante detección diferencial y permitiendo la detección específica de moléculas independientes. A fin de incrementar el rendimiento de los voladizos funcionales, el equipo de proyecto del Mikroelektronik Centret en Dinamarca trabajó en un nuevo protocolo para producir nanoestructuras suspendidas. Para ello, se usó un método de emisión en seco. Se utilizó una capa de material fotosensible, fotorresistente. Esta capa se elimina posteriormente con un sistema de extracción del oxígeno usando una fuente de plasma. Se colocó un fluorocarbono, que actuaba como recubrimiento antiestático, sobre una secuencia de grabado iónico reactivo. Este nuevo proceso cuenta con múltiples ventajas. No contamina y se puede procesar en lotes. Los productos resultantes pueden almacenarse a largo plazo sin que se produzca una esticción o fricción estática no deseable. Esto se debe a la deposición de una capa antiesticción mediante la fusión del método de emisión en seco y la deposición por plasma. La esticción inducida por la fabricación se elimina mediante esta capa antiesticción, al igual que los fenómenos de fricción que se producen durante el funcionamiento mecánico (fricción estática en uso). La aplicación de la nanotecnología y los nanodispositivos resultantes están a punto de aportar un gran beneficio económico en la combinación de CMOS y la nanotecnología. Proyectos de esta naturaleza pueden trasladar el potencial de los ensayos de laboratorio a un entorno industrial de producción. Las partes interesadas pueden conseguir más información en la página Web: http://einstein.uab.es/_c_nanomass/nanomass.html

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