Una produzione di fotonica del silicio conveniente a vantaggio dell’industria dell’UE
I partecipanti al progetto PLAT4M, finanziato dall’UE, hanno sviluppato nuove tecnologie per ottenere una produzione di massa di fotonica del silicio, che può essere usata per costruire circuiti complementari metallo-ossido-semiconduttore (CMOS). L’idea è di usare il silicio, strutturato con una precisione nell’ordine del sub-micrometro, come mezzo ottico in questi micro componenti. I circuiti CMOS offrono un’alta immunità dal rumore e un basso consumo statico di energia, tra i potenziali utenti finali ci sono applicazioni nel campo delle telecomunicazioni e produttori di microelettronica. L’uso diffuso di silicio infatti ha già portato la microelettronica dei CMOS ad applicazioni di mercato di massa come gli smartphone, i sensori e altri dispositivi. Il concetto che sta alla base del progetto PLAT4M, lanciato a ottobre 2012, è che lo sviluppo di nuovi mezzi economicamente convenienti per produrre fotonica del silicio porterà a una rivoluzione simile nel settore della fotonica. La fotonica del silicio è stata identificata come un mezzo per ottenere interconnessioni ottiche, che permettono un trasferimento di dati più veloce tra e all’interno di microchip. Di conseguenza, il concetto è stato studiato attivamente da molti produttori di elettronica e da gruppi di ricerca in ambito accademico negli ultimi anni. La maggior parte della ricerca sulla fotonica del silicio fino a questo momento si è concentrata sugli elementi elementari, piuttosto che sulla fabbricazione di circuiti fotonici integrati completi. Per inserirsi in mercati più ampi, il team di PLAT4M ha compreso che era necessario dimostrare che lo sviluppo e la produzione economicamente conveniente di circuiti integrati fotonici completi fosse possibile. È in questo aspetto che il progetto crede di poter cambiare le cose e migliorare le potenzialità commerciali della fotonica del silicio. Competenze nel campo della fotonica del silicio ed eccellenti strutture di ricerca e sviluppo nel campo della fotonica esistono già in Europa e questo ha permesso al progetto PLAT4M di riunire importanti istituti di ricerca e sviluppo e aziende produttrici di CMOS insieme a importanti esponenti del settore industriale e utenti finali di diversi campi di applicazione. Finora, il progetto quadriennale ha migliorato una serie di piattaforme di fotonica del silicio già esistenti. In particolare, la progettazione e i flussi di processo sono stati semplificati e consolidati in vista di requisiti industriali riguardanti la solidità del progetto, la variabilità del processo e i vincoli di integrazione. L’obiettivo finale del progetto è creare una catena di approvvigionamento europea per la fotonica del silicio che sia appetibile per diversi campi di applicazione e consentire l’istituzione di piattaforme di integrazione industriale per livelli diversi di produzione di massa. Il progetto PLAT4M, la cui conclusione è prevista per la fine di settembre 2016, continuerà a sviluppare processi progettati per sostenere la produzione di massa e verificherà ogni piattaforma con test orientati alle applicazioni. Saranno svolte dimostrazioni che rappresenteranno una gamma varia di campi di applicazione, dalle telecomunicazioni e sensori di gas alla rilevazione della luce e la vibrometria (i vibrometri sono strumenti usati per effettuare rapide misurazioni senza contatto e imaging di vibrazioni. Il progetto potrebbe anche portare a importanti applicazioni per i ricercatori di fisica). Il progetto preparerà un piano d’azione per l’evoluzione delle prestazioni e per valutare la scalabilità della produzione. In questo modo, il progetto PLAT4M spera di portare l’attuale ricerca sulla fotonica del silicio a un livello che permetterà la sua transizione senza problemi all’industria, a vantaggio di numerosi utenti finali sia nell’industria che nel settore accademico. Per ulteriori informazioni, visitare: Sito web del progetto PLAT4M
Paesi
Francia
