Une production rentable de photonique sur silicium au profit de l'industrie européenne
Les partenaires impliqués dans le projet PLAT4M financé par l'UE ont mis au point de nouvelles technologies en vue d'obtenir une production de masse de photonique sur silicium, pouvant servir à mettre en place des circuits de semi-conducteurs complémentaires à oxyde de métal (CMOS). L'idée est d'utiliser le silicium, modelé avec une précision de sous-micromètre, comme support optique dans ces micro-composants. Les circuits CMOS offrent une immunité élevée au bruit et une consommation de puissance statique faible pour des applications potentielles en télécommunication et en micro-élecronique. En effet, l'utilisation répandue du silicium a déjà amené la microélectronique de CMOS aux applications grand public telles que les smartphones, les capteurs et autres appareils électroniques. Le concept à l'origine du projet PLAT4M, lancé en octobre 2012, est que le développement de nouvelles méthodes rentables de production de photonique sur silicium conduira à une révolution similaire dans le secteur photonique. La photonique sur silicium a été identifiée comme un moyen d'accomplir des interconnexions optiques, qui offre un transfert de données plus rapide entre et au sein des micropuces. Par conséquent, nombreux sont les fabricants électroniques et les groupes de recherche universitaire qui ont activement exploré le concept ces dernières années. Néanmoins, la majeure partie de la recherche sur la photonique sur silicium s'est jusqu'à présent concentrée sur les pièces maîtresses, plutôt que sur la fabrication de circuits photoniques intégrés. Afin d'exploiter de plus grands marchés, l'équipe de PLAT4M a réalisé qu'il était nécessaire de démontrer, autant que possible, un développement rentable et une fabrication de circuits photoniques intégrés complets. C'est là que le projet pense pouvoir faire la différence et stimuler le potentiel commercial de la photonique sur silicium. L'expertise en photonique sur silicium et d'excellentes installations de R&D en photonique existent déjà en Europe, et ces dernières ont permis au projet PLAT4M de regrouper des instituts de R&D éminents et des sociétés de CMOS avec plusieurs acteurs industriels clés et des utilisateurs finaux de différents domaines d'application. Jusqu'à présent, le projet d'une durée de quatre ans a mis à jour de nombreuses plateformes photoniques de silicium existantes. Notamment, les flux de conception et de processus ont été modernisés et consolidés par rapport aux critères industriels concernant la robustesse de la conception, la variabilité du processus et les contraintes de l'intégration. L'objectif ultime du projet est d'établir une chaîne d'approvisionnement européenne pour la photonique sur silicium qui fait appel à différents champs d'application, et de permettre la mise en place de plateformes d'intégration industrielle pour différents niveaux de fabrication du volume. Le projet PLAT4M, prévu de s'achever fin septembre 2016, continuera donc de développer des processus conçus pour soutenir la production de masse et validera chaque plateforme au moyen de tests axés sur l'application. Les démonstrations effectuées représenteront divers domaines d'applications, des télécommunications et du captage de gaz à la détection de la lumière et la vibrométrie (les vibromètres sont des instruments utilisés pour effectuer des mesures rapides sans contact et analyser les vibrations. Le projet pourrait également conduire à d'importantes applications pour les chercheurs en physique). Le projet préparera une feuille de route pour l'évolution de la performance, et pour l'évaluation de l'échelonnabilité de la production. Ainsi, le projet PLAT4M espère porter la recherche sur la photonique sur silicium existante à un niveau qui facilitera une transition homogène pour l'industrie, profitant à de nombreux utilisateurs finaux dans les secteurs industriel et académique. Pour plus d'informations, veuillez consulter: site web du projet PLAT4M
Pays
France
