Neue Laserverfahren verbessern Glasstruktur
Das EU-finanzierte Projekt HIGH-EF will der Silizium-Dünnschichtphotovoltaik-Branche ein einzigartiges Verfahren verschaffen: Es winken höhere Wirkungsgrade der Solarzellen. Basierend auf der Kombination von Kristallisation und Verdickung in einem Festphasenkristallisations -Verfahren ist das Laser-Festphasenkristallisationsverfahren ein wichtiger Durchbruch in der Silizium-Dünnschicht-Photovoltaik auf Glas, da dadurch die Korngröße erheblich vergrößert sowie die Dichte von Defekten und die Beanspruchungswerte reduziert werden. Standard-Festphasenkristallisationsverfahren auf Glas führen zu kleinerer Körnung mit einer höheren Dichte intern ausgedehnter Defekte, die Ursache schlechter Wirkungsgrade sind. Allerdings hielten die Forscher es auch für wichtig, dass die Kosten einer industriellen Implementierung der Laser-Festphasenkristallisation nicht über den Kosten eines reinen Festphasenkristallisationsverfahrens liegen sollten. Das HIGH-EF-Projekt arbeitete an der Entwicklung kostengünstiger Laserdioden. Das Ziel war es, diese miteinander zu kombinieren, um einen Strichfokus zu bilden, mit dem die Kristallisation eines vollständigen Moduls in einem einzigen Durchgang möglich wird. Die Aufmerksamkeit lag auf der Bestimmung aller für den Erfolg des Projekts erforderlichen Kompetenzen und auf der Auswahl der Partner, um ein multidisziplinäres Konsortium mit sieben Organisationen aus vier Mitgliedstaaten und einem assoziierten Land zu bilden. Alle Bemühungen sollten die Technologie der multikristallinen Dünnschichtsiliziumsolarzellen durch das neue Laser-Festphasenkristallisationsverfahren voranbringen.
